Máquina de recubrimiento de metalización de plástico al vacío
Información básica
Modelo: HC-
Descripción del producto
No. de modelo: HC- Recubrimiento: Recubrimiento al vacío Certificación: CE, ISO Productos: Máquina de recubrimiento de metalización de plástico al vacío Aplicación: Grifería, Artículos sanitarios, Grifo, Boquilla de pulverización Modo de control: 10.4 pulgadas PLC Pantalla táctil Control automático Número de modelo: Hc-1110, Hc-1215, Hc-1619 Material de revestimiento: acero inoxidable, aleación de metal, cerámica, vidrio, etc. Origen: China Guangdong Tipo: Línea de producción de revestimiento Sustrato: Aluminio Condición: Nueva Marca: Hcvac, Dongguan, China Color de revestimiento: Plata, Dorado, Negro, oro rosa, rosa, bronce, tecnología de revestimiento: deposición a baja temperatura, revestimiento al vacío Capa de revestimiento: cromo, Zr, estaño, Tic, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au, etc. Marca registrada: HUICHENG Código HS: 8543300090 \ n \ nMáquina de recubrimiento de metalización de plástico al vacío \ n \ n \ n \ nLa máquina puede reemplazar la forma tradicional de recubrimiento químico, utiliza la forma de recubrimiento al vacío para recubrir el cromo y otro metal estable único en la superficie de los productos, su efecto de recubrimiento será mejor que el metalizado al vacío también , Por lo general, se utiliza para algunos industria, como logotipos de automóviles, manijas de puertas de automóviles y otros revestimientos de alta gama. La máquina tenía un diseño de control completamente automático, puede lograr un funcionamiento sin personal. \ N Se utiliza principalmente en vidrio plano, acrílico, PC, PET, plástico, superficie metálica para platinar, película de metal multifunción de alta calidad, película de blindaje electromagnético, la película de reacción película compuesta, película conductora transparente, antirreflejos (AR), película de aumento de reflectancia, LOW-E, etc. Nuestra empresa puede realizar el diseño de acuerdo con sus requisitos, proporcionar un equipo completo, responder al proceso, entregar la "llave" a tiempo. \ N \ nCaracterísticas: \ n1.El equipo utiliza la técnica de pulverización catódica de magnetrón al vacío, cátodo doble, pulverización MF. técnica y emparejamiento con sistemas de control avanzados. \ n2.El proceso de producción es todo automatizado, continuo. La temperatura más alta de la pieza de trabajo de enchapado es de hasta 350 grados centígrados, la temperatura es de control de zona y ajustable. \ N3.Los materiales de la cámara de vacío adoptan SUS304, pulido de la pared interna de la cámara de vacío, rociando perlas en la pared externa de la cámara de vacío después del pulido. \ n4.La cámara de vacío separada por una válvula de compuerta independiente. La válvula de tapón de placa r que hemos diseñado se puede cortar de manera efectiva y estabilizar el gas de proceso. Actualmente, solo nuestras empresas nacionales tienen la tecnología para diseñar y fabricar válvulas de tapón de placa, y tiene un sellado mejor efectivo y más durabilidad que la válvula de aleta actual. \ N5 La transmisión adopta la orientación magnética para prometer estabilidad. La velocidad de toda la línea de producción en cada sección utiliza el motor de velocidad ajustable de frecuencia variable para conducir, la velocidad de movimiento es ajustable. \ n6, Sistemas de control eléctrico: pantalla táctil y control automático PLC, diálogo hombre-máquina para lograr la visualización, operación y control de datos. \ n \ n
\ n \ n \ n \ nPodemos diseñar la dimensión de la cámara de vacío de acuerdo con sus requisitos. También podemos diseñar y configurar la unidad de vacío y el sistema de control eléctrico de acuerdo con sus requisitos. \ N \ nSi tiene alguna pregunta, no dude en ponerse en contacto con Sophia: \ nMobile: 86 13600282018 \ n \ nLINE: 86 13600282018
Mode Dimension | JTZ-1214 | JTZ-1418 | JTZ-1619 | JTZ-1820 |
1200*1400mm | 1400*1800mm | 1600*1900mm | 1800*2000mm | |
Film type | Meal film, translucent film, nonconductive film, electromagnetism shield film, dielectric film, etc. | |||
Power source | Resistance evaporation power, DC magnetron power, RF power | |||
Sputtering and electrode structure | Column magnetron targets, plane rectangle targets, twin targets, evaporation electrode. | |||
Vacuum chamber structure | Vertical double door, Vertical single door, pump system postposition, horizontal single door, pump system for side. | |||
Ultimate vacuum | 4.0*10-4pa | |||
Vacuum system | Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump +Holding pump | |||
Pump time | Pump from atmosphere to 8.5*10-3,15 minutes | |||
Control mode | Manual/Automatic all in one mode, Touch screen + PLC |
Grupos de Producto : Máquina de recubrimiento de iones multifunción
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