Máquina de recubrimiento PVD Sistema de pulverización de magnetrón
Información básica
Modelo: HC-
Descripción del producto
No. de modelo: HC- Recubrimiento: Recubrimiento al vacío Certificación: CE, ISO Productos: Máquina de recubrimiento PVD Sistema de pulverización de magnetrón Aplicación: Grifería, Artículos sanitarios, Grifo, Boquilla de pulverización Modo de control: Control automático de pantalla táctil PLC de 10.4 pulgadas Número de modelo: Hc-1110 , Hc-1215, Hc-1619 Material de revestimiento: Acero inoxidable, Aleación de metal, Cerámica, Vidrio, etc. Origen: China Tipo de Guangdong: Línea de producción de revestimiento Sustrato: Acero Condición: Nueva Marca: Hcvac, Dongguan, China Color de revestimiento: Plata, Dorado , Negro, Oro rosa, Rosa, Bronce, Tecnología de recubrimiento: Deposición a baja temperatura, Recubrimiento al vacío Capa de recubrimiento: Cromo, Zr, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au, etc. Marca registrada: HUICHENG Código HS: 8543300090 \ n \ n Recubrimiento de PVD Sistema de pulverización de magnetrón de la máquina \ nLa máquina puede obtener todo tipo de recubrimiento en la superficie de los productos, incluido el recubrimiento de aluminio, cromo, acero inoxidable, latón, oro, plata y más metales simples o aleados en superficies de plástico, vidrio, cerámica y metal. tienen 2 tipos, uno es DC sputtering, otro es MF s puttering para diferentes usos. \ n \ nPara obtener más información, póngase en contacto con Sophia \ nPor teléfono: 86 13600282018 \ n \ nLa máquina adecuada para recubrir utiliza la técnica de descarga de resplandor de cátodo de pulverización catódica magnetrón para ionizar y depositar la molécula (objetivo) en el material base (PVD), así como la técnica de calentamiento por resistencia en el vacío para fundir el alambre de metal y / o vaporizar la molécula de metal. De esta manera puede metalizar la superficie plástica del material base, la carcasa del teléfono móvil, etc. para lograr la función de los productos no conductores y el escudo de electromagnetismo, para alcanzar así el estándar de la industria de fabricación de productos electrónicos de alta gama. \ n \ n \ nCaracterística: \ nEl equipo integra el tratamiento con plasma, la pulverización catódica de magnetrón de alta gama, el revestimiento de evaporación de resistencia Equipo, marco de rotación de carga grande y la técnica de control automático. Tiene el trabajo confiable, buena repetibilidad y consistencia. Tasa de deposición rápida, alta adherencia, película fina, etc. La película flotante es densa y dureza con bajo coeficiente de fricción, para mantener la suavidad de la superficie de la pieza de trabajo original, buena flexibilidad, difícil de romper y caer. \ nEl equipo hace que la automatización completa de la tecnología de recubrimiento se haga realidad. Utiliza la técnica de recubrimiento al vacío para capa en la superficie del material base.Tiene las características de bajo costo, alta tasa de calificación, protección ambiental verde, etc. \ nIndustria aplicada: plástico, cerámica, computadora, teléfono móvil, autopartes, industria de alta gama, electrodomésticos , aviación, etc. Puede recubrir la película de metal compuesto, película de aleación, película transparente (translúcida), película no conductora, película protectora de electromagnetismo, película especial, etc. \ nParámetro técnico:
\ n \ nPodemos diseñar la dimensión de la cámara de vacío de acuerdo con sus requisitos.También podemos diseñar y configurar la unidad de vacío y el sistema de control eléctrico de acuerdo con sus requisitos. \ n \ nSi tiene alguna pregunta, no dude en ponerse en contacto con Sophia: \ nMobile: 86 13600282018 \ n \ nLINE: 86 13600282018
Mode Dimension | JTZ-1200 | JTZ-1400 | JTZ-1600 |
1200*1400mm | 1400*1800mm | 1600*1800mm | |
Film type | Meal film, translucent film, nonconductive film, electromagnetism shield film, dielectric film, etc. | ||
Power source | Resistance evaporation power, DC magnetron power, | ||
Sputtering and electrode structure | Column magnetron targets, plane rectangle targets, twin targets, evaporation electrode. | ||
Vacuum chamber structure | Vertical double door, Vertical single door, pump system postposition, horizontal single door, pump system for side. | ||
Ultimate vacuum | 4.0*10-4pa | ||
Vacuum system | Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump +Holding pump | ||
Pump time | Pump from atmosphere to 8.5*10-3,≤15 minutes | ||
Workpiece motion mode | Public rotation/ Frequency control | ||
Control mode | Manual/Automatic all in one mode, Touch screen + PLC | ||
Remark | We can design the dimension of the equipment according to customer's special techniq |
Grupos de Producto : Máquina de recubrimiento de iones multifunción
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