Hcvac Magnetron Sputtering Coating Machine
Información básica
Modelo: HC-
Descripción del producto
Modelo N °: HC- Recubrimiento: Recubrimiento al vacío Certificación: CE, ISO Productos: Hcvac Magnetron Sputtering Máquina de recubrimiento Aplicación: Tapware, sanitarios, grifo, boquilla de pulverización Modo de control: 10.4 pulgadas PLC Pantalla táctil Control automático Número de modelo: Hc-1110, Hc-1215, Hc-1619 Material de revestimiento: acero inoxidable, aleación de metal, cerámica, vidrio, etc. Origen: China Guangdong Tipo: revestimiento de línea de producción de revestimiento: acero Condición: Nuevo Marca: Hcvac, Dongguan, China Color de recubrimiento: plata, oro, Negro, Rosa Dorado, Rosa, Bronce, tecnología Co Coating: Deposición a baja temperatura, Recubrimiento al vacío Capa de recubrimiento: Cromo, Zr, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au, etc. Marca: HUICHENG HS Código: 8543300090 \ n \ nHCVAC magnetron sputtering máquina de recubrimiento por pulverización catódica magnetrón lineal, máquina de recubrimiento por pulverización catódica por PVD: \ n \ nLa máquina puede obtener todo tipo de recubrimiento en la superficie de los productos, incluyendo revestimiento de aluminio, cromo, acero inoxidable, latón, oro, plata y más metal único o de aleación en plástico, vidrio, cerámica, d superficie de metal.Tiene 2 tipos, uno es DC sputtering, otro es sputtering MF para diferentes usos. \ n \ nPara obtener más información, pls en contacto con Sophia \ nPor móvil: 86 13600282018 \ n \ nLa máquina adecuada para el recubrimiento utiliza el magnetrón sputtering cátodo descarga de brillo técnica para ionizar y depositar la molécula (objetivo) en el material base (PVD), así como la técnica de calentamiento de resistencia en el vacío para derretir el alambre de metal o vaporizar la molécula de metal. Así puede metalizar la superficie de plástico del material de base, carcasa del teléfono móvil, etc. Utilice la filmación especial para lograr la función de productos no conductores y escudo de electromagnetismo, por lo tanto, para alcanzar el estándar de la industria de fabricación de productos electrónicos de gama alta. \ n \ n \ n Característica: \ nEl equipo integra el tratamiento de plasma, el sputtering del magnetrón del cátodo de gama alta, el equipo de recubrimiento de evaporación de resistencia, el marco de rotación de carga grande y la técnica de control automático. Tiene el trabajo confiable, buena repetibilidad yc onsistency. Rápida tasa de deposición, alta adhesión, película fina, etc. La película de recubrimiento es densa y dureza con bajo coeficiente de fricción, para mantener la suavidad de la superficie original de la pieza de trabajo, buena flexibilidad, difícil de romper y caer. \ nEl equipo se llena la automatización de la tecnología de recubrimiento se hace realidad. Utiliza la técnica de revestimiento al vacío para recubrir la superficie del material base. Tiene las características de bajo costo, alta tasa de calificación, protección ambiental verde, etc. \ nIngeniería aplicada: plástico, cerámica, computadora, teléfono móvil, autopartes, industria de gama alta, electrodomésticos, aviación, etc. Puede revestir la película metálica compuesta, película de aleación, película transparente (translúcida), película no conductora, película de blindaje de electromagnetismo, película especial, etc. nParámetro técnico:
\ n \ nPodremos diseñar la dimensión de la cámara de vacío de acuerdo con sus requisitos. También podemos diseñar y configurar la unidad de vacío y el sistema de control eléctrico de acuerdo con sus necesidades. \ n \ nSi tiene alguna pregunta, no dude en ponerse en contacto con Sophia: \ nMóvil: 86 13600282018 \ n \ nLINE: 86 13600282018
Mode Dimension | JTZ-1200 | JTZ-1400 | JTZ-1600 |
1200*1400mm | 1400*1800mm | 1600*1800mm | |
Film type | Meal film, translucent film, nonconductive film, electromagnetism shield film, dielectric film, etc. | ||
Power source | Resistance evaporation power, DC magnetron power, | ||
Sputtering and electrode structure | Column magnetron targets, plane rectangle targets, twin targets, evaporation electrode. | ||
Vacuum chamber structure | Vertical double door, Vertical single door, pump system postposition, horizontal single door, pump system for side. | ||
Ultimate vacuum | 4.0*10-4pa | ||
Vacuum system | Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump +Holding pump | ||
Pump time | Pump from atmosphere to 8.5*10-3,≤15 minutes | ||
Workpiece motion mode | Public rotation/ Frequency control | ||
Control mode | Manual/Automatic all in one mode, Touch screen + PLC | ||
Remark | We can design the dimension of the equipment according to customer's special techniq |
Grupos de Producto : Máquina de recubrimiento de iones multifunción
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