PVD Oro / Plata / Oro Rosa / Azul / Negro Máquina de Recubrimiento al Vacío para Relojes
Información básica
Modelo: JTL-series
Descripción del producto
Modelo N °: Recubrimiento de la serie JTL: Condición de recubrimiento al vacío: Nueva aplicación: Recubrimiento decorativo, ampliamente utilizado en recubrimiento Tecnología de recubrimiento de joyas: Recubrimiento de iones de arco, Sputtering de magnetrón, Plasma Especificación: ISO9001, Código HS CE: 85433000 Tipo: Recubrimiento de la línea de producción de revestimiento : Steel Business Tipo: Manufacture + Trading Marca: Huicheng Trademark: HUICHENG Origen: China, Guangdong Jewelry PVD Coating Machine \ n \ nJewelry PVD Coating Machine integra tres tecnologías de DC magnetron sputtering, sputtering de frecuencia media y evaporación de iones de arco eléctrico, combinando el lineal fuente de ionización y recubrimiento de polarización de pulso para diluir las partículas de deposición. Las diversas prestaciones de la película son mejoradas, y pueden recubrir películas de aleación, películas compuestas, películas compuestas multicapa en la superficie de metal y no metal. Después de años de investigación y desarrollo dedicado por nuestro ingeniero, a través de sistemas únicos de arco eléctrico de cátodo y magnetrón desequilibrado, desarrollamos un paquete de serie PROPOWER de sistema de control automático de computadora. Hace la densidad de adhesión de la película de recubrimiento así como una buena consistencia compleja, y resuelve los problemas de la complejidad de la operación manual, inconsistencias de color de la película, etc. \ n \ n Característica: \ n \ n1. El principio del sputtering de magnetrón se basa en la teoría de descarga de resplandor del cátodo, expandiendo el campo magnético de la superficie del cátodo cerca de la superficie de la pieza de trabajo, para aumentar la velocidad ionizada de los átomos de pulverización. Conserva el delicado chisporroteo del magnetrón y aumenta el brillo. \ N \ n2. El rendimiento de la fuente de evaporación de plasma de arco eléctrico es confiable, puede trabajar bajo la corriente de 30 A cuando se optimiza el recubrimiento de cátodo y estructura de campo magnético, y la película de recubrimiento y la interfaz de sustrato producen difusión atómica, más la característica de la deposición asistida por haz de iones. \ n \ n \ n \ nIndustria aplicada: el equipo es ampliamente utilizado en relojes IPG, relojes y relojes IPS, pistolas IP, carcasa de teléfono móvil, hardware, sanitarios, cortadores, herramientas antifricción, matrices y moldes, etc. puede recubrir TiN, TiCN, CrN, TiALN, TiNbu, TiCrN, ZrN, y varios tipos de película de diamantes (DLC). \ n \ n \ nDiscripción: La máquina de recubrimiento por vacío de iones PVD integró tres tecnologías de chisporroteo de magnetrón DC, bombardeo de frecuencia media y evaporación de arco eléctrico, combinando la fuente de ionización lineal y el recubrimiento de polarización de pulso para diluir las partículas de deposición \ n \ nNota: \ n1-Podemos hacer que el diseño sea la dimensión del equipo de acuerdo con la técnica especial requerida por el cliente. \ n2 -Todo revestimiento de vacío mach Los ines son los productos de prodección del medio ambiente, que reemplazarán las industrias tradicionales de galvanización en el futuro.
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Mode Dimension | JTL-900 | JTL-1100 | JTL-1250 |
900*1000mm | 1100*1000mm | 1250*1100mm | |
Coating mode and main confirguration | Six multi-arc targets + one set of column targets + one set of plane rectangle magnetron sputtering targets | Six multi-arc targets + a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets | Twelve multi-arc targets + two sets of plane rectangle magnetron sputtering targets + a pair of twin (MF)magnetron sputtering targets |
Power source | Electric arc power, DC magnetron power, MF magnetron power, filament power, pulse power, linear ionized source. | ||
Process gas control | Quality flowmeter + electromagnetism ceramic valve | ||
Vacuum chamber structure | Vertical single(side) door, pump system postposition, double water-cooling | ||
Vacuum system | Molecule pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10-5Pa) Diffusion pump +Roots pump +Mechanical pump(5.0*10-4Pa) | ||
Workpiece baking temperature | Normal temperature to 350 centi-degree PID control, radiation heating. | ||
Workpiece motion mode | Public rotation Frequency control: 0-20 rotation per minute | ||
Measure mode | Number display composite vacuum gauge: from atmosphere to 1.0*10-5Pa | ||
Control mode | Manual/Automatic/PC/PLC + HMI/PC four choice of control mode | ||
Remark | We can design the dimension of the equipment according to customer's special technique requirement. |
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Grupos de Producto : Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón
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